主要特点:本磨抛机为双盘双控制台式机,适用于对试样的粗磨、精磨和抛光操作,可供两人工作。本机采用微处理系统,双盘都可单独直接获得50-1000转/分钟之间的转速和150与300转/分钟的两级定速,从而使本机具有更广泛的应用性,本机具有冷却装置,可以在研磨抛光的对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织。该机使用方便、安全可靠,是工厂、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
主要技术规格:
双盘,无极变速,50-1000转,150/300r/min,双电机、双控制系统、数显转速,塑钢壳
主要特点:本磨抛机为双盘双控制台式机,适用于对试样的粗磨、精磨和抛光操作,可供两人工作。本机采用微处理系统,双盘都可单独直接获得50-1000转/分钟之间的转速和150与300转/分钟的两级定速,从而使本机具有更广泛的应用性,本机具有冷却装置,可以在研磨抛光的对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织。该机使用方便、安全可靠,是工厂、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
主要技术规格:
双盘,无极变速,50-1000转,150/300r/min,双电机、双控制系统、数显转速,塑钢壳